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[와이즈맥스 뉴스] 반도체 및 디스플레이 업종 온실가스 산정방법 기준 변경

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작성자 와이즈맥스 댓글 0건 조회 4,337회 작성일 23-06-13 16:17

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- 반도체 뉴스 -

환경부 소속 국립환경과학원은 아산화질소, 수소불화탄소, 과불화탄소, 육불화황, 삼불화질소 등 반도체 및 디스플레이 업종의 주요 온실가스 배출량 및 감축량을 정확하게 산정할 수 있도록 개정한 온실가스공정시험기준을 국립환경과학원 누리집에 공개했습니다.

반도체 업종은 우리나라 국가안보 및 경쟁력 변화의 파급효과가 가장 큰 중요한 자산으로써 수출비중이 약 20%이며 세계 시장 점유율 2위인 주요 업종입니다.

국내 반도체 및 디스플레이 생산량 증가로 온실가스 배출량이 지속적으로 증대되어 국내 주요 업종별 온실가스 배출량 중 반도체 및 디스플레이 각각 5위 및 6위를 차지했고 이에 따른 온실가스 감축이 필요하며 감축량을 산정할 수 있는 측정방법의 마련이 요구되어 왔습니다.

이에 국립환경과학원은 산업공정 배출가스 중에 포함된 아산화질소, 수소불화탄소, 과불화탄소, 육불화황, 삼불화질소의 농도를 적외선흡수분광법으로 측정하여 온실가스 배출권거래제의 배출량 보고 및 인증에 적용할 수 있도록 온실가스 공정시험 기준을 제정했습니다.

반도체 및 디스플레이 분야 온실가스 감축량 산정을 위한 가장 현실적인 방안은 제조과정 중 식각(Etching) 및 증착(CVD, Chemical Vapor Deposition) 공정에 사용되는 불소 화합물 및 온실가스에 대해 처리시설(스크러버)을 통해 파괴되거나 제거되는 저감 효율을 측정하는 방식입니다.

공정 중 사용되는 각각의 불소 화합물 및 온실가스에 대한 처리시설(스크러버)의 가스 저감 효율을 측정하기 위하여 신뢰성 있는 측정 방법의 마련이 필요하며 이를 위해 온실가스 공정시험기준을 개발했습니다.

이 측정방법을 통하여 반도체 및 디스플레이 전자산업 등의 산업공정 배출가스 중에 포함된 불소화합물(수소불화탄소, 과불화탄소, 육불화황, 삼불화질소) 및 아산화질소의 농도를 측정할 수 있으며 이를 활용하여 개별 또는 통합 처리시설의 온실가스 저감 효율뿐만 아니라 식각 및 증착 공정중 온실가스 사용 비율 및 부생가스 발생비율을 산정할수 있습니다.

이번에 개정된 온실가스공정시험기준은 지난해 11월 사전 행정예고를 통해 국민들의 의견이 반영되고 이후 수정안에 대해 관련 전문가 및 관계 기관 검토를 거쳐 마련되었습니다.

유명수 국립환경과학원 기후대기연구부장은 "이번 온실가스 공정시험기준 개정은 반도체와 디스플레이 업종의 탄소중립 노력에 대한 정량평가 기준 수립에 의의가 있으며 앞으로도 이를 활용하여 기술경쟁력뿐만 아니라 온실가스 감축에 대한 선도적인 역학을 수행할 수 있는 확보를 하겠다"라고 말했습니다.


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