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나노종합기술원(이하 나노기술원)은 반도체 소부장 지원 역량 강화를 위한 12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술 개발에 성공했다고 30일 밝혔습니다.

나노기술원에 의하면  소부장 기업에서 대기업 반도체 양산기술 수준에 부합하는 반도체 소재와 장비 개발을 위한 20나노급 미세 패턴과 증착 서비스 필요성을 요청해 왔고 이에 나노기술원은 공정별로 구성된 TF팀을 구성해 6개월만에 추가적 장비 투자 없이 20나노 미세패턴 공정기술을 개발하는데 성공했습니다.

이번 기술은 나노기술원이 운영하고 있는 12인치 핵심장비의 40나노 노광공정과 식각공정을 기반으로 SADP(Self-Aligned Double Patterning)로 개발되었고 개발팀은 20나노 미세패턴((일대일 Pitch, Line과 Space 비율)을 구현하는데도 성공했습니다. 특히 추가적인 장비투자 없이 12인치 반도체 장비만으로 구현돼 200억원 규모의 예산을 절감하였고 개발기간까지 단축에 집적도를 4배 높일 수 있는 공정기술로 평가되었습니다.

나노기술원은 20나노 미세패턴을 활용할 국내 반도체 소재(감광제, 반사방지막 등) 기업과 장비기업의 서비스 수요에 활용할 계획이고 이를 통해 서비스 영역 확장도 추진한다고 밝혔습니다. 

나노기술원은 국내에서 처음으로 12인치 반도체 테스트베드를 구축, 운영하고 있는 나노인프라 기관인데요 핵심장비와 클린룸 구축을 완료하고 21년 3월부터 국내외 반도체 소부장 기업을 위한 서비스를 제공해 왔습니다.

이조원 원장은 "이번 공정기술 개발은 기술원의 12인치 반도체 테스트베드 활용도를 획기적으로 높일 수 있는 성과로, 향후 국내 반도체 대기업과 소부장 기업과의 연계, 협력을 기반으로 반도체 강국 구현을 위한 공공 테스트베드 역할과 책임을 더욱 강화해 나가겠다"고 강조했습니다.

한편 이번 기술개발 성과는 과학기술정보통신부 지원(나노종합기술원 지원-반도체 장비부품소재 테스트베드 구축)으로 진행됐습니다.